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下降爐
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DRX-95型下降爐主要技術(shù)參數(shù)與性能描述 主要技術(shù)參數(shù):
性能描述: 1, 觸摸屏+PLC控制;科學(xué)合理、穩(wěn)定可靠的工藝熱場(chǎng)是生長(zhǎng)高質(zhì)量晶體材料的關(guān)鍵條件; 2, 3段加熱分別有歐陸控溫儀控制; 3, 溫度/下降速度/位移等多種工藝參數(shù)/工藝曲線存儲(chǔ); 4, 溫度梯度設(shè)置范圍:橫向梯度 ≤0.5℃/cm 縱向溫度梯度:5℃--30℃/cm可設(shè)置 5, 密閉環(huán)境下的坩堝下降設(shè)備——采用密閉腔體(真空或氣氛條件)多坩堝下降法晶體生長(zhǎng)技術(shù),兼顧了密閉環(huán)境(真空或氣氛條件)環(huán)境和坩堝下降法的優(yōu)點(diǎn),有利于穩(wěn)定熱場(chǎng),確保生長(zhǎng)出高質(zhì)量的晶體,防止原料氧化和水解對(duì)性能的危害,同時(shí)也可防止組分在高溫下的揮發(fā)和泄露,避免環(huán)境污染; 6, 多坩堝公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)專利技術(shù)——保證每只坩堝受熱均勻,溫度一致,晶體質(zhì)量均衡; 7, 節(jié)能環(huán)保——加熱器采用多段式加熱方式,可根據(jù)不同工藝要求精確控制各段加熱器,在消耗最低電能的情況下獲得理想工藝條件下;同時(shí),采用密閉的工作腔,不但有利于晶體生長(zhǎng)工藝參數(shù)的精準(zhǔn)獲得,有利于工藝氣體的有序流動(dòng),更有利于廢氣的集中排放和處理。 8, 爐底與坩堝運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)同步升降,在保證坩堝位置精度、運(yùn)動(dòng)精度的同時(shí),方便在設(shè)備底部裝卸料。 9, 爐蓋可以升起旋轉(zhuǎn)開,便于安裝、調(diào)整熱場(chǎng)。 |